
资料来源:Shan兄弟
在国际技术封锁和供应链安全挑战面临的中国半导体行业的后方,一家名为Xin Kailai的公司出现了,并成为2025年上海国际半导体展览(Semicon China 2025)中最具反射性的明星。
该公司仅建立了三年,不仅发布了31个涵盖整个半导体过程的设备,而且还通过独特的技术路线和州财产挑战了国际巨型半导体设备的垄断地位。
Xinkailai似乎一夜之间从石头上弹出,充满了神秘。它投放的产品就像核弹一样,产生了巨大影响。本文将解释Xinkailai的过去和现在生活和技术突破,探索独特的“国家 +技术的UPAARI”,并独立评估中国半导体行业的战略价值和长期意义和C。摇滚。
从华为差异的秘密历史到由行政管理资产和委员会拥有的深圳州立大学的大力支持,从蚀刻设备的技术基准测试到替代发现量的国内,Xinkailai的增加不仅是公司的成功,而且是一个易于从被动防御损失转移到活跃的损失的表现出色的表现力,也是令人赞叹的。
Xinkailai的出现和展览的主要版本
2025年3月26日,上海国际半导体展览(中国半导体2025年)充满了人们,深圳Xinkailai工业机械公司有限公司的摊位已成为观众的重点。这家公司以前很少出现的公司首次在整个半导体中感到震惊,并在旅途中发布了31个新的半导体设备,向6个类别发行了,涵盖了从薄胶卷到礼节和DII的设备处理过程Scovery。
这些设备以著名的中国山脉的命名 - 普托山PVD,Changbai Mountain CVD,Wuyi Mountain蚀刻机,Alishan Ald等。
Xinkailai产品系列设备总裁的演讲题为“半导体过程中设备的机遇和挑战”,他系统地解释了技术CONS -CONSICECCONCCOMPANY EPTO和产品布局。 Du Lijun教授:“一代过程,一代材料和一代设备”是Xinkailai Design的主要概念,半导体设备的演变应与技术和材料的开发同步。
面对目前在中国禁止的高级光刻机器的状况,他特别强调了非光学填充技术的重要性一种神学,包括许多创新技术,例如许多曝光,自我对准和选择性删除,这有望部分使中国在光刻领域的缺点。
全面而系统的产品矩阵
从特定产品的角度来看,Xinkailai的发布是全面和系统的:
在扩散产品方面,该公司推出了三个模特,每个“ Emeishan”系列EPI(外延沉积)设备和“ Sanqingshan”系列RTP(快速热处理)设备。其中,“ Emeishan”系列是一个12英寸的单芯片减压外延生长装置,它完全涵盖了逻辑和外延应用方案。 “ Sanqingshan”系列包括门氧化/硝化设备,超快峰值退火设备以及相等的温度/峰值退火设备,以满足退火过程中的各种需求。
“ Wuyishan”蚀刻产品系列包括三个设备:Wuyishan No. 1 MasteR(细介质蚀刻设备),Wuyishan 3号(细硅/金属蚀刻设备)和Wuyishan No. 5(高选择性蚀刻设备)。尤其要注意的是,武扬山系列蚀刻机系列直接进入7纳米下方的高级过程领域,从美国应用材料和东京电子产品到日本的类似产品进行基准测试。
薄膜沉积设备涵盖了三类:PVD(Puoshan系列),ALD(Alishan Series)和CVD(Changbaishan系列)。这些设备接近关键指标的国际领先水平,例如房间设计的反应和对电影相似性的控制,预计将破坏PVD领域中85%的AMAT市场垄断(应用材料)。
更成功的是Xinkailai的布局在数量的测试设备领域中。
长期以来,测试设备的数量是中国Qiandao设备生产率最低的类别之一,其中DOMESTIC市场一部分不到5%的C制造商。 Xinkailai展示了四个主要类别的产品:光学化,光学测量,PX测量和电气检测,包括Yuielishan BFI(明显发现现场缺陷),Danxiashan DFI(暗场缺陷检测),Tianmenshan IBO(图形测量值)等(图形测量值)等。
该公司表示,其数量发现的光学产品通常完成了客户的验证,并将在2025年之前进入大众劳动。
这一系列产品的发布不仅显示了Xinkailai的强大技术能力,而且标志着中国半导体设备行业从“单点突破”转变为“系统突破”。
正如Du Lijun在演讲中强调的那样,Xinkailai制作了全面的组织系统架构,硬件,设备和算法,并建立了10多个主要实验室,例如等离子体,其他管理,管理管理,流体控制以及设备的智能,这为半导体技术的持续发展奠定了坚实的基础。
从华为的撤资到被捕获的国有资产:Xinkailai的过去和当前生活以及独特的模型
Xinkailai的增加是偶然的,其后面是复杂而复杂的工业布局和资本运营。
来自许多各方的信息表明,似乎“无处不在”的公司实际上诞生了华为半导体设备的子公司。在2022年国际供应链最大的压力期间,它是由深圳州立政府管理委员会通过低调的资本转移而占据和投资的。
这种安排不仅可以维持华为InsemicDuctor设备的技术积累,而且还可以避免通过国家财产的干预而遭受国际罚款的风险。它可以被认为是中国半导体的经典案例RY。
根据该公司的公共信息,Xinkailai Technology Co,Ltd成立于2021年8月,由深圳深圳市Xinhang Technology Investment Co,Ltd.建立,在渗透之后,实际控制者是国家资产的管理和深圳市政府政府委员会的管理。
2022年,建立了Xinkailai Industrial Machinery Co,Ltd,并成为研发和制造业的主要机构。到2024年,Xinkailai技术的注册资本将增加到15亿元人民币,依次大规模的研发和劳动力提供了足够的保证。
“国家 +技术属性拥有”的独特模型为Xin Kailai带来了许多好处。
一方面,它的主要团队来自华为的“星光工程部”,具有20多年的电子设备研究经验和开发,并深深依赖于流动沿着半导体行业的国内链;
另一方面,深圳国有资产监督和行政委员会不仅提供财务支持,而且还促进了其与Smic和5angtze Memory等领先的晶圆厂的合作,以加速产品验证和市场介绍。
研发的深厚技术积累和系统
从其专利布局可以看到Xinkailai的技术积累。该公司拥有80多种发明专利和公用事业模型,该模型涵盖了基本链接,例如光学,材料和控制控制。
2024年10月,Xinkailai获得了“具有起重结构的过程处理设备”的专利,这将使在过程处理过程中处理材料的效率。同年11月,该公司开发了“静态Chuck and Equipment Process”的专利,以解决较慢的晶圆处理费用行业的疼痛行业。
根据r&D系统,Xinkailai建立了一个端到端的研发系统,涵盖了过程设备的基本过程。除了深圳的总部外,该公司还在上海,北京,西安,武汉,成都和杭州和国外的国内城市设有研发中心。
在招聘信息的判断中,该公司在许多领域都在努力吸收才能,例如机械,光电,光电,材料,软件和硬件,尤其是专业方向,例如准确性,光学工程,半导体物理学和算法,以建立跨学科研究和开发团队。
值得注意的是,开发Xinkailai的道路反映了深圳作为中国巡回赛联合行业的第三杆的独特方法(仅在上海和北京第二)。
过去,深圳在芯片设计方面很棒,并且在制造业中被忽略了。近年来,它一直在积极发展其缺点通过政策和工业融合的支持。除Xinkailai外,深圳主要的工业投资集团还部署了许多项目,例如Smic深圳12英寸生产线,中国资源资源微电子特殊Prococess Producess生产线,以及对Tianke Silicon Carbide材料基础的再投资,这些材料基础构成了半大管行业的完整集群。
“技术基因 +资本援助 +政策护送”的三个驱动模型使Xinkailai在短短三年内就可以完成从该行业的一开始变成黑马的转变。
正如行业观察家所指示的那样,Xinkailai的兴起不是一个孤立的案例,而是通过在国家财产领导下修复资本和技术融合来建立“隐藏冠军”的一般方法。
在经济和卫生技术领域,类似的成功案例包括大学开发的“绿灯瓶”等产品香港共同展示了中国在主要领域进行主导和受控技术的系统努力。
技术封锁的突破:行业的核心创新和行业影响
在半导体行业全球结构的重塑后面,Xinkailai的技术突破性成功具有特殊意义。该公司不仅填补了中国的许多空白,而且还通过某些领域的国际巨头实现了直接的基准测试,这为破解中国半导体设备的“瓶颈”困境提供了现实的途径。
在蚀刻技术方面,Xinkaithe Wuyishan系列设备的到来尤其明显。虽然芯片工艺从平面晶体管(平面)到鳍片效应晶体管(FinFET),甚至完全是周围的门晶体管(GAAFET),但技术挖掘却面临着严重的挑战,例如改进,良好和高深度。
他们Xinkailai的Wuyishan的Aster No. 1采用了电容耦合等离子体(CCP)干蚀刻技术。该房间被设计为完全对称的体系结构,可以配置6个过程室,以满足各种高级节点的精细媒体蚀刻的要求。
更重要的是,该设备系列直接进入7纳米以下的高级过程领域,以及该市场的挑战,这是日本应用美国和东京电子材料的垄断。
在薄膜薄薄的领域中,Xinkailai的变化也很明显。 ALD(原子层沉积)设备“ Alishan”系列采用了五边形平台和双腔领先的建筑,该建筑可以满足图形,超薄电影,超高深度以及比率差距比的严格需求。
“ Putuoshan”系列PVD(物理去除蒸汽)设备的性能很好效率和填充质量及其技术参数接近领先顶级的国际水平。
这些突破对于减少中国对薄膜拆除设备中的国际巨头(如AMAT和TEL)的希望至关重要。
特别值得关注的是非光学光技术中的Xinkailai布局。
Du Lijun在讲话中承认,在当前被禁止的高级光刻机器的情况下,许多曝光,与自己保持一致和选择性拆除的技术已成为打破光刻束缚的重要选择。但是,这些技术的应用将使该过程的过程几乎增加20%,从而在收益过程和设备的窗户中进行了新的试验。
直到今天,Xinkailai集中在三个主要方向上:等离子体/自由基精确控制(能量控制精度),气体/能量控制快速开关(硬件响应速度)和空腔环境的快速稳定性洋葱(窗口窗口)。
该公司还开发了从原子物理模型到化学反应模型的仿真软件,并伴随着创新的硬件,例如射频源和过滤器,以全面改善设备性能。
在国内生产率最低的测试设备数量的领域中,Xinkailai iSher的崩溃也很重要。根据公共信息,尽管中国对全球近34%的半导体测量和市场规模测试,但国内制造市场份额不到5%。
预计Xinkailai提出的光学测量,测量PX和其他产品将改变这种情况。光学检测产品,例如Yuielishan BFI(明亮的场缺陷检测)和Danxiashan DFI(暗场缺陷检测)通常完成客户验证,并将在2025年进行大规模生产; PX测量产品,例如Yimengshan AFM(原子力量测量),Chibishan-XP(X射线光电子光谱测量),等等。
从工业链的角度来看,Xinkailai的突破性技术创造了连锁反应。
一方面,它的设备通过国内领先的晶圆厂(例如SMIC)进行了启动,并开始进行实际生产。其他人则挫伤了公司的条款,该公司遵循正面设计和全链路垂直整合的方法,从而形成了半导体和材料设备组件。这种“点对面”的影响有助于中国半导体行业发展一个更完整,更独立的供应链系统。
从全球竞争场景的角度来看,Xinkailai的增加改变了半导体设备市场力量的比较。
长期以来,基本设备(例如光刻机器,蚀刻机,薄膜拆除设备)是国际巨头(例如应用材料,Asmay和Electronic Tokyo)的垄断。垫子RIX设备覆盖了整个链条AY,使中国能够首次与半导体设备领域的系统水平竞争。
尽管该公司在最先进的过程中仍然拥有国际领导者,但其技术能力和在州房地产的持续投资方面的迅速发展造成了国际同行的压力。
战略价值和工业重要性:独立创新的道路,而不是更换
提高Xinkailai不仅意味着公司的成功故事。它的背后是中国半导体行业发展的战略转变。从被动防御到积极的成功,从技术替代到标准指南,Xinkailai技能都标志着中国半导体行业探索了触觉的独立变化之路,而不是简单替代。
供应链安全是最直接的Xinkailai数量。
在地缘政治因素的影响下,半导体设备的自由和控制已成为与国家科学和技术安全有关的主要问题。正如报告所指出的那样:“大多数制造芯片的设备都由国外的公司控制。许多设备由某些公司控制。在这种情况下,讨价还价中的晶圆厂剩下的空间不大。”
通过综合的扩散布局,蚀刻,膜和发现设备的数量,Xinkailai极大地改善了中国半导体链的独立和受控能力。特别值得注意的是,该公司表示其某些设备(包括产品列表中不使用的工具)可以支持更先进的芯片制造,这有望增强中国在技术自由上的努力。
从升级工业的角度来看,Xinkailai代表了半导体设备本地化过程的一个新阶段。
近年来,中国的D率很高在去除胶水,清洁和蚀刻设备方面的粘液生产,还产生了明显的CMP突破,热处理和薄膜的薄去除,但在测量,胶水涂层和发育,光刻,离子植入和其他设备方面仍然有些弱。
Xinkailai不仅将中国在蚀刻等传统领域的地位结合在一起,而且在ALD和Discovery量之类的薄弱环节中取得了突破,并促进了“单点突破”到“系统突破”中本地化穆拉的转变。这种全面的布局对于开发半导体设备的完整生态系统很重要。
就技术路线的变化而言,Xinkailai的技能也令人鼓舞。
面对这样的事实,即禁止使用光刻机器等基本设备,该公司不遵守传统的技术途径,而是积极探索诸如新材料,高级光刻 +非光学的替代解决方案Al填充灯和3D体系结构。
基于现实障碍的现代思维可以诞生与全球主流不同的技术途径,从而为已经发展迟到以实现技术超越的国家提供了机会。
尽管Loongarch开发了CPU,并在Loongarch的Intel Batis的主流附近表现出色,但“高级流程行业将决定所有人”的迷信被打破了。 Xinkailai的技术路线还反映了中国的“障碍下变化”的智慧。
从对工业政策的宏观见解,Xinkailai的成功已证明了具有中国财产的高科技发展模型,“国家运营指南 +市场 +技术集成的运营”。
州立和行政管理不仅提供财政支持,而且还通过政策倾斜来促进工业链的向上和下降,从而加速了技术实现的转变市场和市场介绍。该模型不仅可以防止在纯市场定位下进行短期行为,而且还可以防止黄昏在纯粹的行政领导下,并为需要长期投资和高风险和高回报的半导体等战略行业带来独特的好处。
Xinkailai的兴起也标志着中国技术公司思维和定位的深度变化。
从华为的上升AI生态系统(Loongarch指令集)到Xinkailai的“著名山区”设备,这些案件共同发出了信号:中国技术公司对遵循国际巨头不再满意,而是需要定义自己的技术路线和工业路线。
从“替代者”到“定义者”的身份变化可能会对未来的全球技术竞争产生深远的影响。
灾难性的表明,Xinkailai的发展也有助于将来的思想全球半导体行业。
中国半导体行业协会综合巡回赛设计部门主席Wei Shaojun在论坛上说:“如果世界发展了一个(芯片)技术系统,这似乎是有道理的,但从未来的中国和美国领导的技术体系,但从工业发展的角度来看,如果这种情况确实发生了,那么这可能是一个很大的危险,这可能是一个浪漫的危机,这是一个损失。
这种观点提醒我们,在追求自由和控制能力的同时,我们还应避免由于全球半导体行业的完全分离而造成的效率和障碍的损失。如何平衡独立变革和与Xinkailai的国际合作将受到长期关注的主题。
从长远来看,Xinkailai的价值不仅反映在当前的设备更换中,而且还反映了其在中国Semicond的转型能力的一般改善中UCTOR行业。
由Xinkailai建造的10多个主要实验室和端到端的研发系统,大量的跨学科耕地才能以及积累的知识和数据的大量过程对于中国半导体行业的持续变化都是重要的特性。变化功能的积累比单个产品的崩溃更为主要和持久。
挑战和前景:新凯莱的未来道路
尽管辛·凯莱(Xin Kailai)在2025年中国半岛(Semicon China)的首次亮相是惊人的,但其未来发展仍面临许多挑战。从技术追赶,市场发展到生态建设,这家新的半导体设备公司仍然有很长的路要走。
技术差距是Xinkailai面临的最直接挑战。
尽管该公司推出了支持7纳米以下过程的蚀刻设备,但最先进的节点节点(例如3纳米,2纳米)仍然有C李尔国际领导人。
在测试设备数量的领域也是如此。尽管Xinkailai推出了许多产品,但使用关键指标(例如发现准确性,速度和稳定性)将需要一些时间才能达到国际领先水平。
半导体设备是强调技术积累的地方。 Xinkailai需要继续投资于研发,以缩小国际Higante的间隔。
接受市场是另一个主要挑战。
巨型国际半导体设备,例如应用材料,电子东京等,与TSMC和三星等领先面料(如TSMC和三星)有数十年的合作接触,从而构成了对信任的知识和基础的深刻知识。
尽管Xinkailai曾与SMIC等国内制造商合作,以获得世界领先的面料的认可和提取,但它也需要进行严格的产品验证和长期的市场培养。特别是在F中高级流程,晶圆工厂对设备和窗户工艺具有严格的稳定性要求,而Xinkailai的设备需要证明其在实际劳动中的竞争力。
供应链自主权不容忽视。半导体本身中的设备取决于高精度的成分和材料,并且流中的这些流量也具有“瓶颈”风险。尽管Xinkailai遵守整个链接的垂直整合的方法,但完全独立的供应链的构建并不是一项努力。如何在预防全球化的背景下开发安全可靠的供应链系统将是公司面临的长期问题。
人才的竞争也将更加激烈。半导体设备行业需要整个学科的高端才能,涵盖了许多领域,例如机械,光学,材料,物理,化学和软件。随着中国半导体I的迅速发展Ndustry,对不同公司的才能竞争将更加激烈。吸引人和热爱的人才如何吸引Xinkailai并建立不断变化的研发文化与长期竞争直接相关。
尽管面临许多挑战,但Xinkailai开发的前景仍然很普遍。
从市场需求的角度来看,Semi预计中国将投资于2025年的计算芯片制造设备将达到380亿美元,为Xinkailai提供了巨大的市场空间。
从政策环境的角度来看,该国对半导体设备自由的支持继续增加,而深圳等地方政府也将半导体行业作为主要发展方向。
从技术趋势来看,人工智能和智能驾驶等行业中计算能力的需求是驱动正在进行的转盘芯片设备市场,而Xinkailai布局在IN设备的讲述希望占据技术红利的浪潮。
未来发展的方法
在接下来的几年中,Xinkailai可能会专注于促进以下方法:
就技术差异而言,该公司将继续朝着更先进的过程节点发展,同时扩大了其在第三代半导体(例如硅碳酸盐和氮化碳)设备领域的布局。深圳为全国第三代半导体技术创新建立了一个综合平台,为在该领域的Xinkailai开发提供了有利的条件。
在市场扩张方面,Xinkailai将加深与国内顶级晶圆厂的合作,以验证和批量制造。同时,公司还可以通过“皮带和道路”等渠道探索新兴市场的机会,并逐渐发展全球影响力。
在生态学方面Cal Construction,Xinkailai需要加强与流动和流动的业务的协调,并促进设备,材料和流程的联合变化。由于应用材料是由“设备处理物质”解决方案形成的,因此Xinkailai还需要开发自己的生态系统并改善解决方案的整体解决方案。
就国际合作而言,在确保供应链安全的基础上,Xinkailai可能寻求与海外研究机构和商业进行技术交流和合作,吸收Pandaigdi Sourcesgang的变化,并防止技术途径的关闭和固执。
在更长的时间里,Xinkailai的发展将促进中国半导体行业的整体发展。正如Wei Shaojun教授所说:“半导体是一个行业,而不是讲话,应该通过实际的行动来证明它们。”
Xinkailai是否可以继续改变并继续前进实际上,可以使用中国的半导体设备,甚至是全球半导体行业的重要参与者的基准企业发展。
现在,当全球化面对落后和技术竞争变得更加激烈时,Xinkailai的故事才刚刚开始。增加它不仅提醒公司的成功或失败,而且还带来了中国半导体行业的集体希望,以实现独立和控制。
不管未来如何,Xinkailai在中国半岛半导体设备行业和未来的良好标志和未来的承诺都为之留下了明显的印记。
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